NS3500三維激光共聚焦顯微鏡

NS-3500是一種可靠的三維(3D)測(cè)量高速共焦激光掃描顯微鏡(CLSM)。通過(guò)快速光學(xué)掃描模塊和信號(hào)處理算法實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)共焦顯微圖像。在測(cè)量和檢測(cè)微觀三維結(jié)構(gòu)，如半導(dǎo)體晶片，F(xiàn)PD產(chǎn)品，MEMS設(shè)備，玻璃基板，材料表面等方面擁有*的解決方案。

Features & Benefits（性能及優(yōu)勢(shì)）：

• 高分辨無(wú)損傷光學(xué)3D測(cè)量                               自動(dòng)傾斜補(bǔ)償

• 實(shí)時(shí)共焦成像                                                 簡(jiǎn)單的數(shù)據(jù)分析模式

• 多種光學(xué)變焦                                                 雙Z掃描

  大范圍拼接                                                    半透明基材的特征檢測(cè)

• 實(shí)時(shí)CCD明場(chǎng)和共聚焦成像                            無(wú)樣品準(zhǔn)備

• 自動(dòng)聚焦

Software (軟件）：

Application field（應(yīng)用領(lǐng)域）：

NS-3500是測(cè)量低維材料的有前途的解決方案。

可測(cè)量微米和亞微米結(jié)構(gòu)的高度，寬度，角度，面積和體積，例如

-半導(dǎo)體:IC圖形，凹凸高度，線圈高度，缺陷檢測(cè)，CMP工藝

- FPD產(chǎn)品:觸摸屏屏幕檢測(cè)，ITO圖案，LCD柱間距高度

- MEMS器件:結(jié)構(gòu)三維輪廓，表面粗糙度，MEMS圖形

-玻璃表面:薄膜太陽(yáng)能電池，太陽(yáng)能電池紋理，激光圖案

-材料研究:模具表面檢測(cè)，粗糙度，裂紋分析

Specification (規(guī)格）：

精細(xì)和長(zhǎng)距離掃描儀的雙重掃描模式僅適用于NS-3500-S（單鏡頭類(lèi)型）。                

注1:精細(xì)掃描由壓電執(zhí)行器（PZT）執(zhí)行。

注2 :以100×/ 0.95物鏡對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品（步長(zhǎng)1μm）進(jìn)行100次測(cè)量。      

注 3 :以100×/ 0.95物鏡對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品（5μm間距）進(jìn)行100次測(cè)量。